半導體CVD設備

趨勢研判！2025年中國半導體CVD設備行業產品分類、產業鏈、發展現狀、競爭格局及前景展望：半導體CVD設備技術不斷進步，行業規模超500億元[圖]

半導體CVD設備是半導體制造過程中用于化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，CVD）工藝的關鍵設備。其核心功能是通過化學反應，將氣態物質沉積在半導體晶圓（硅片）表面，形成一層固態薄膜，這些薄膜是構建半導體器件（如晶體管、集成電路）的基礎材料。半導體CVD設備主要包括常壓化學氣相沉積（APCVD）、低壓化學氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）、原子層化學氣相沉積（ALD）、氣相外延（VPE）、金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）、高密度等離子體化學氣相沉積（HDPCVD）等。